功能简介： 

　　器件可穿戴、柔性化是当前电子产品发展的一个趋势，而高质量的功能薄膜是微电子器件不可或缺的重要组成部分。磁控溅射是一种成熟高效的薄膜沉积技术，已广泛应用于科学研究及工业生产中。对柔性器件而言，由于其衬底材料的特殊性，容易在薄膜沉积过程中出现褶皱、翘曲、结合力差等问题。本套卷对卷磁控溅射镀膜设备，针对柔性薄膜器件专门设计，具有以下特点：（1）配备了张力控制和衬底升/降温系统，可有效解决衬底的自行翘曲和因溅射升温导致的衬底褶皱问题；（2）配备了高压电子轰击棒和离子源对薄膜进行前处理及后处理，对增强薄膜结合力、提升薄膜结晶质量具有显著功效；（3）系统拥有包含直流靶、射频靶在内的多个靶位，并可同时工作，可提升薄膜沉积效率，更有利于多层膜系的沉积；（4）系统具备膜厚和透光率在线监测系统，便于薄膜数据的收集和质量控制。 

　　仪器型号与工作条件： 

　　设备厂商：深圳市振恒昌实业有限公司，型号：JW-300。该套卷对卷磁控溅射镀膜设备镀膜辊直径φ1200mm，最大幅宽450mm，靶材尺寸460×90×5mm，衬底温度范围-5~200℃。 

　　存放地点与联系人： 

　　设备安放地址：长宁园区7号楼一楼东 

　　联系人：徐小科，021-52412441。 

　　仪器图片：