功能简介：
该设备用于ZrC、HfC等超高温陶瓷体系涂层的制备。采用固态的ZrCl4和HfCl4为锆源和铪源，以CH4气体为碳源，以H2为还原性气体，在1400-1600℃进行高温化学气相沉积。
仪器型号与工作条件：
设备厂商:湖南鼎立科技有限公司；型号: VCVD 0203；常规最高工作温度为1600℃，温度均匀性为±4.5℃，极限真空度为5.4Pa，空炉抽气速率为20min抽到20Pa。
存放地点与联系人：
设备安放地址：嘉定园区A楼101室。
联系人：王新刚，021-69906219。
仪器图片：
